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1.メチル化メラミン樹脂
2.アルキル化尿素樹脂
3.酸発生剤（PAG）
4.紫外線吸収剤
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電子材料用架橋剤：
アルキル化アミノ樹脂を高純度に精製しネガ型レジスト用架橋剤として、ｉ-線用架橋剤にメチル化メラミン樹脂をまた、エキシマレジスト用架橋剤にメチル化尿素樹脂をご紹介いたします。化学増幅型ネガ型レジスト、液晶カラーフィルター用レジストに使用いただけます。
光酸発生剤：
化学増幅型レジスト、カラーフィルター用レジスト等の光酸発生剤として高い信頼をいただいております。
HP上の化合物は一例であり、この他の化合物はお問い合わせください。
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| MW-390 |
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1.メチル化メラミン樹脂 |
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| 商 品 名 |
構 造 式 |
性 状 |
不揮発分 (%) |
包装形態 |
ニカラック
MW-390 |
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白色粉末
単量体含量 (%)：
96以上
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98.0以上
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リムペール缶
ポリ瓶
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ニカラック
MW-100LM |
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無色粘稠性液体
単量体含量 (%)：
70〜80
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98.0以上
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ポリ缶
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ニカラック
MX-750LM |
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無色澄明液体
単量体含量 (%)：
35〜45
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82.0±2.0%
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ポリ瓶
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2.アルキル化尿素樹脂 |
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| 商 品 名 |
構 造 式 |
性 状 |
不揮発分(%) |
包装形態 |
ニカラック
MX-270 |
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白色粉末
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98.0以上
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リムペール缶
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ニカラック
MX-280 |
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無色澄明液体
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96.0以上
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ポリ瓶
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ニカラック
MX-279 |
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澄明液体
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95.0以上
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ポリ瓶
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3.酸発生剤（PAG） |
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| 商 品 名 |
構 造 式 |
一般名 |
用途 |
| TS-01 |
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トリ(4-メチルフェニル)スルホニウム トリフルオロメタンスルホン酸塩
trifluoromethansulfonate |
エキシマレーザー用
光酸発生剤 |
| TS-91 |
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トリ(4-メチルフェニル)スルホニウム 六フッ化リン酸塩 |
エキシマレーザー用
光酸発生剤 |
TFE-
トリアジン |
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２‐[２‐(フラン‐２‐イル)エテニル]‐４,６‐ビス(トリクロロメチル)‐s‐トリアジン |
g-線、i-線用光酸発生剤 |
TME-
トリアジン |
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２- [２- (５‐メチルフラン-２-イル)エテニル] -４,６-ビス(トリクロロメチル) -s-トリアジン |
g-線、i-線用光酸発生剤 |
MP-
トリアジン |
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２‐(４‐メトキシフェニル)‐４,６‐ビス(トリクロロメチル)‐ｓ‐トリアジン |
g-線、i-線用光酸発生剤 |
MOP-
トリアジン |
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２-[２-(４-メトキシフェニル)エテニル]-４,６-ビス(トリクロロメチル)-ｓ-トリアジン |
g-線、i-線用光酸発生剤 |
ジメトキシ
トリアジン |
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２- [２-(３,４‐ジメトキシフェニル)エテニル] -４,６-ビス(トリクロロメチル) -ｓ-トリアジン |
g-線、i-線用光酸発生剤 |
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4.紫外線吸収剤 |
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| 商 品 名 |
構 造 式 |
一般名 |
用途 |
| クルクミン |
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１,７‐ビス(４‐ヒドロキシ‐３‐メトキシフェニル)‐１,６‐ヘプタジエン‐３,５‐ジオン |
g-線、i-線用紫外線吸収剤 |
| HPH |
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１,７‐ビス(４‐ヒドロキシフェニル)‐１,６‐ヘプタジエン‐３,５‐ジオン |
g-線、i-線用紫外線吸収剤
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